截至 2023 年，市场估值约为 94 亿美元，反映出对先进半导体技术不断增长的需求。 展望 2028 年，市场预计将增长约 253 亿美元，这反映了技术将在未来半导体制造中发挥的关键作用。 主要市场驱动因素 计算技术的进步：人工智 购买马约特岛电子邮件地址 能、机器学习的兴起以及对高性能计算的需求极大地推动了需求。 电子设备小型化：设备尺寸更小、效率更高的持续趋势不断突破芯片制造的极限。 半导体制造的创新举措：随着传统光刻达到其极限，EUV光刻至关重要，使其成为未来发展的关键技术。
主要市场参与者 该市场由几家主要的紫外光刻公司主导，每家公司都为紫外光刻市场的进步做出了重大贡献。 先进微芯片技术：极紫外光刻 (EUVL) 的作用 市场挑战和限制 尽管前景广阔，EUV 光刻市场仍面临一些挑战： 高成本和复杂性： EUV 技术的复杂性及其相关成本是更广泛采用的主要障碍。 技术挑战：随着芯片功能进一步缩小，良率、吞吐量和复杂性成为更加严峻的挑战。 供应链障碍： EUV 设备的专业性和高需求给供应链带来了重大挑战。 区域洞察 该市场覆盖全球，但区域差异显着： 北美和欧洲：这些地区处于领先地位，主要参与者有ASML和英特尔等。